Перейти к основному содержанию

Термические процессы

Категории раздела

    IR-RTS

    Установка быстрого термического шока IR-RTS

    Данная установка применяется в производстве пластин для солнечных батарей и предназначена для удаления деформации пластин возникающей после высокотемпературной обработки (выпуклость, вогнутость и т.д.).

    DCF

    Серия DCF

    Печи этой серии были специально разработаны под нужды производителей солнечных батарей. В системы включен блок, обеспечивающий нанесение фосфора сверху и снизу. Печь обеспечивает однородную температуру.

    Технические характеристики:
    • Подходит для массового производства
    • Одновременное покрытие нижней и верхней сторон пластин
    • Контроллер температуры
    • Современный графический пользовательский интерфейс
    • Безопасность работы
    • Легкость в обслуживании
    Встроенная в линию опция нанесения фосфора:

    RSS-350/450

    Высокотемпературные печи оплавления RSS-350/450

    Данные печи идеально подходит лабораторных условий, а так же для мелкосерийного производства и  предназначены для различных процессов, таких как бесфлюсовое оплавление паст, Flip Chip процессов, сушки адгезивов, отверждения компаундов в различных атмосферах и др.
    Загрузка изделий в рабочую камеру печей осуществляется вручную. Печи легко управляемы и просты в техобслуживании. В печах имеется одна программируемая газовая линия с расходомером.

    RSO-650

    Высокотемпературная печь оплавления RSO-650

    Данные печи идеально подходят лабораторных условий, а также для мелкосерийного производства и  предназначены для различных процессов, таких как бесфлюсовое оплавление паст, Flip Chip процессов, сушки адгезивов, отверждения компаундов в различных атмосферах и др.

    RTP-1200-100

    Высокотемпературная печь RTP-1200-100

    Данные печи предназначены для температурной обработки полупроводниковых пластин и подложек диаметром до 150 мм и могут применяться для различных процессов в условиях как лабораторного, так и мелко серийного производства. Загрузка подложек в рабочую камеру печей производится вручную. Печи легко управляемы и просты в техобслуживании. Две программируемые газовые линии с расходомерами могут использовать два различных газа, а если к печам подсоединить вакуумную помпу, то печи могут использоваться для  вакуумных процессов.

    RTP-1000-150

    Высокотемпературная печь RTP-1000-150

    Данные печи предназначены для температурной обработки полупроводниковых пластин и подложек диаметром до 150 мм и могут применяться для различных процессов в условиях как лабораторного, так и мелко серийного производства. Загрузка подложек в рабочую камеру печей производится вручную. Печи легко управляемы и просты в техобслуживании. Две программируемые газовые линии с расходомерами могут использовать два различных газа, а если к печам подсоединить вакуумную помпу, то печи могут использоваться для  вакуумных процессов.

    RTP-1000-200

    Высокотемпературная печь

    Данные печи предназначены для температурной обработки полупроводниковых пластин и подложек диаметром до 200 мм и могут применяться для различных процессов в условиях как лабораторного, так и мелко серийного производства. Загрузка подложек в рабочую камеру печей производится вручную.